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          固體徑跡蝕刻測量系統(tǒng)

          更新時(shí)間:2025-05-17

          訪問量:241

          廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

          生產(chǎn)地址:

          簡要描述:
          DNS-1固體徑跡蝕刻測量系統(tǒng)是一款全自動(dòng)的,高性能的固體徑跡分析系統(tǒng),可用來進(jìn)行氡濃度和中子劑量測量。對(duì)γ射線、β射線不靈敏。徑跡分析單元采用高性能的Nikon光學(xué)器件,3D機(jī)動(dòng)控制系統(tǒng),可快速/精確地分析批量的探測器。
          品牌何亦產(chǎn)地國產(chǎn)
          加工定制

          產(chǎn)品特點(diǎn)

          v全自動(dòng)分析批量探測器,單次可讀取64片探測器(1cm×1cm),單次分析數(shù)量連續(xù)可調(diào)

          v全自動(dòng)校正響應(yīng)衰變

          v本底低探測限可達(dá)5 kBq/m3,高探測限可達(dá)15 MBq/m3

          v線性度好于3%

          v具有自動(dòng)分辨氡/釷的能力

          v全自動(dòng)讀出ID號(hào)

          v自動(dòng)對(duì)焦,高性能成像技術(shù),可區(qū)分蝕刻徑跡和本底

          v可全自動(dòng)讀取徑跡探測器信息,包括自動(dòng)識(shí)別探測器編碼、自動(dòng)測量探測器徑跡計(jì)數(shù)、自動(dòng)識(shí)別有效徑跡、標(biāo)記徑跡的絕對(duì)位置

          v徑跡讀數(shù)自動(dòng)轉(zhuǎn)換成劑量,結(jié)果保存在數(shù)據(jù)庫中,還可把數(shù)據(jù)導(dǎo)出到Excel表中

             技術(shù)參數(shù)

            蝕刻單元

          n蝕刻溶液:6.25mol/L氫氧化鈉溶液

          n蝕刻溫度:95℃

          n蝕刻時(shí)間:<5小時(shí)

          n單次最大蝕刻數(shù)量:≥250個(gè)(1cm*1cm,CR-39),蝕刻數(shù)量連續(xù)可調(diào)

          n蝕刻速率:蝕刻溫度為98 ℃時(shí),速率為10μm/h

          n自動(dòng)控制整個(gè)化學(xué)蝕刻過程,并顯示當(dāng)前工作狀態(tài)

          n腔體采用堅(jiān)固耐用抗腐蝕的高強(qiáng)度材料


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